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壓電納米位移臺
掃描探針顯微鏡
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
超高真空組件和配件
探針臺和低溫系統(tǒng)
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產(chǎn)品
化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）
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可實(shí)現(xiàn)低溫、無需催化劑、在多種襯底上（如金屬、氧化物、半導(dǎo)體表面）直接生長均勻的石墨烯納米晶薄膜、氮化硼等二維材料。
等離子體修飾系統(tǒng)
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基于氫等離子體的干法刻蝕技術(shù)可對石墨烯的面內(nèi)各向異性刻蝕，形成特定的、原子級平整的邊界。
壓電納米位移臺
壓電直線納米位移臺
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直線運(yùn)動納米壓電馬達(dá)位移平臺提供行程從±7.5mm到±92mm的不同規(guī)格的標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品，移動分辨率最小可達(dá)0.05nm。提供開環(huán)和閉環(huán)控制版本、大氣和真空兼容版本。
壓電旋轉(zhuǎn)納米位移臺
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可以360度旋轉(zhuǎn)平面，由高分辨率壓電馬達(dá)驅(qū)動。提供開環(huán)和閉環(huán)版本。
壓電多軸納米位移臺
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多個納米位移平臺組合而成的多軸運(yùn)動和定位產(chǎn)品，包括2軸，3軸、4軸、5軸等，形式多樣，可根據(jù)需求定制。
SEM納米探針臺
線性壓電位移臺-長行程系列 XYMF-133-100A
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XYMF-133-100A平移臺實(shí)現(xiàn)了在XY二維空間上的準(zhǔn)確定位，具有分辨率高，行程大（XY軸行程±50mm），帶有高精度及高分辨率的位置反饋。
線性壓電位移臺
線性壓電位移臺-超低溫系列 LT34-06B
線性壓電位移臺-MF系列 MF40-25A
掃描探針顯微鏡
掃描探針顯微鏡
掃描探針顯微鏡（Scanning Probe Microscope，SPM）是掃描隧道顯微鏡及在掃描隧道顯微鏡的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的各種新型探針顯微鏡（原子力顯微鏡，靜電力顯微鏡，磁力顯微鏡，掃描離子電導(dǎo)顯微鏡，掃描電化學(xué)顯微鏡等）的統(tǒng)稱，是國際上近年發(fā)展起來的表面分析儀器，是綜合運(yùn)用光電子技術(shù)、激光技術(shù)、微弱信號檢測技術(shù)、精密機(jī)械設(shè)計和加工、自動控制技術(shù)、數(shù)字信號處理技術(shù)、應(yīng)用光學(xué)技術(shù)、計算機(jī)高速采集和控制及高分辨圖形處理技術(shù)等現(xiàn)代科技成果的光、機(jī)、電一體化的高科技產(chǎn)品。
低溫超高真空掃描隧道顯微鏡 （Ultrascan LT-100）
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卓聚創(chuàng)新研發(fā)的超高空低溫（4K）STM系統(tǒng)包含關(guān)鍵技術(shù)如壓電陶瓷步進(jìn)馬達(dá)、低溫STM探頭、超真空液氦雙層杜瓦等，系統(tǒng)主要指標(biāo)達(dá)到或超過了國際商業(yè)化系統(tǒng)的最好水平。
掃描探針顯微鏡控制器
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超高性價比的掃描探針控制器，主流的性能指標(biāo)。包括掃描單元、進(jìn)針單元、信號采集單元。支持STM模式和非接觸式AFM模式。
超高真空組件和配件
超高真空組件和配件
空間用高壓絕緣組件(簡稱高壓組件)是行波管放大器功率傳輸?shù)年P(guān)鍵部件。在我國空間行波管放大器國產(chǎn)化研制過程中,經(jīng)統(tǒng)計故障有80%是在熱真空試驗(yàn)中發(fā)生的,而熱真空試驗(yàn)中的故障70%以上又是由高壓組件灌封氣泡缺陷造成的,高壓組件真空灌封技術(shù)已成為制約我國空間行波管放大器應(yīng)用的瓶頸之一。為此,本文對高壓組件灌封缺陷形成機(jī)理、灌封工藝及裝備技術(shù)進(jìn)行了系統(tǒng)的研究,解決了高壓組件灌封不實(shí)、灌封體內(nèi)部存有死空間或裂縫等灌封缺陷問題,形成了自主的高壓組件真空灌封技術(shù)。
法蘭和穿通法蘭
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各種標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭、觀察窗和真空電學(xué)、光學(xué)、水、氣穿通組件。
超高真空擺動機(jī)械手
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超真空擺動機(jī)械手采用磁力驅(qū)動，其末端裝有夾爪，可操作一系列不同的樣品托，例如旗形樣品托。夾爪可以通過按壓放在外部末端的磁體把手按鈕來實(shí)現(xiàn)夾嘴的開合，還可以為不同形狀樣品托提供各種適合的開合夾嘴。
超高真空磁力耦合傳樣桿
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超高真空磁力耦合傳樣桿（CF35），可線性運(yùn)動和旋轉(zhuǎn)，主要功能是將樣品在真空環(huán)境下傳輸樣品或樣品拖等。磁力桿外部的釤鈷磁鐵和磁力桿內(nèi)部的磁鐵耦合在一起進(jìn)行傳輸，內(nèi)部高精度軸承保證了傳樣桿即使經(jīng)過多次加熱烘烤也能順暢地傳樣。
探針臺和低溫系統(tǒng)
探針臺和低溫系統(tǒng)
探針臺和低溫系統(tǒng)專注于為半導(dǎo)體領(lǐng)域、微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案，為全國各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供先進(jìn)的半導(dǎo)體及微納米科學(xué)儀器，為祖國微納米科學(xué)事業(yè)的騰飛貢獻(xiàn)一份綿薄之力！
干式液氦低溫探針臺
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使用GM制冷機(jī)，操作方便，最低溫度8K。震動優(yōu)于1um。4到6個探針臂，可選直流或者射頻探針。
臺階儀
國產(chǎn)臺階儀JS100A
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JS100A是卓聚科技自主開發(fā)的全國產(chǎn)化臺階儀。具有高精度，高分解能，搭配一體花崗巖結(jié)構(gòu)，提供 穩(wěn)定可靠的重復(fù)性測量。
二維材料轉(zhuǎn)移臺
二維材料轉(zhuǎn)移臺-2D material transfer table
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2DTrans-ams-03，全電動二維材料轉(zhuǎn)移臺，是專為解決手動轉(zhuǎn)移過程中由手的抖動帶來的這一不良結(jié)果，并充分還原手動轉(zhuǎn)移過程中的手感與操作方式，給予更好的精確度和掌控性。同時也是一款專為手套箱環(huán)境設(shè)計的二維材料轉(zhuǎn)移臺，用于解決水氧敏感材料的轉(zhuǎn)移痛點(diǎn)。并且還是一款 專為轉(zhuǎn)移“魔角”樣品而設(shè)計的二維材料轉(zhuǎn)移臺。
光柵尺
超高真空微型光柵尺-SMG26系列
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常見問題
應(yīng)用案例
新材料領(lǐng)域
新材料領(lǐng)域
微米和亞微米光刻 (最小可達(dá)到0.6um線寬)，紫外光直寫曝光,無需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用，靈活性高，可直接通過電腦設(shè)計光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計要求隨意調(diào)整。可升級開放性系統(tǒng)設(shè)計。按照客戶要求可從低端到高端自由配置使用維護(hù)簡單, 設(shè)備耗材價格低。應(yīng)用范圍廣，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。
物理科學(xué)領(lǐng)域
物理科學(xué)領(lǐng)域
物理科學(xué)領(lǐng)域是掃描隧道顯微鏡及在掃描隧道顯微鏡的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的各種新型探針顯微鏡（原子力顯微鏡，靜電力顯微鏡，磁力顯微鏡，掃描離子電導(dǎo)顯微鏡，掃描電化學(xué)顯微鏡等）的統(tǒng)稱，是國際上近年發(fā)展起來的表面分析儀器，是綜合運(yùn)用光電子技術(shù)、激光技術(shù)、微弱信號檢測技術(shù)、精密機(jī)械設(shè)計和加工、自動控制技術(shù)、數(shù)字信號處理技術(shù)、應(yīng)用光學(xué)技術(shù)、計算機(jī)高速采集和控制及高分辨圖形處理技術(shù)等現(xiàn)代科技成果的光、機(jī)、電一體化的高科技產(chǎn)品。
生命科學(xué)領(lǐng)域
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空間用高壓絕緣組件(簡稱高壓組件)是行波管放大器功率傳輸?shù)年P(guān)鍵部件。在我國空間行波管放大器國產(chǎn)化研制過程中,經(jīng)統(tǒng)計故障有80%是在熱真空試驗(yàn)中發(fā)生的,而熱真空試驗(yàn)中的故障70%以上又是由高壓組件灌封氣泡缺陷造成的,高壓組件真空灌封技術(shù)已成為制約我國空間行波管放大器應(yīng)用的瓶頸之一。為此,本文對高壓組件灌封缺陷形成機(jī)理、灌封工藝及裝備技術(shù)進(jìn)行了系統(tǒng)的研究,解決了高壓組件灌封不實(shí)、灌封體內(nèi)部存有死空間或裂縫等灌封缺陷問題,形成了自主的高壓組件真空灌封技術(shù)。
半導(dǎo)體和光電子工業(yè)
半導(dǎo)體和光電子工業(yè)
本實(shí)用新型涉及用于掃描探針顯微鏡的納米掃描臺，其包括安裝于矩形底板上的掃描臺支架，納米掃描臺內(nèi)設(shè)有柔性鉸鏈；柔性鉸鏈為四棱短管狀，其每一側(cè)壁均為由內(nèi)側(cè)壁和外側(cè)壁組成的夾層薄壁，每一側(cè)外側(cè)壁均通過細(xì)桿連接著內(nèi)套筒外端，內(nèi)套筒內(nèi)側(cè)連接著壓電陶瓷管，壓電陶瓷管的另一端連接著外套筒內(nèi)側(cè)，外套筒的外端連接著掃描臺支架，且四根壓電陶瓷管均布在掃描臺的兩個對角線方向的四個角處；柔性鉸鏈的軸向頂面連接著樣品臺。
自動化生產(chǎn)
自動化生產(chǎn)
微米和亞微米光刻 (最小可達(dá)到0.6um線寬)，紫外光直寫曝光,無需掩模，大幅節(jié)約了掩模加工費(fèi)用，靈活性高，可直接通過電腦設(shè)計光刻圖形，并可根據(jù)設(shè)計要求隨意調(diào)整?？缮夐_放性系統(tǒng)設(shè)計。按照客戶要求可從低端到高端自由配置使用維護(hù)簡單, 設(shè)備耗材價格低。應(yīng)用范圍廣，目前廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、生物芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、傳感器、微化學(xué)、光學(xué)等領(lǐng)域。
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