判斷納米位移臺是否出現(xiàn)誤差，需要從系統(tǒng)反饋、運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)和測量結(jié)果等多個(gè)維度綜合分析。以下是常用的判斷方法和依據(jù)：
一、從控制系統(tǒng)或反饋信號判斷
閉環(huán)控制反饋值與設(shè)定值不一致
如果位移臺為閉環(huán)控制（如帶有光柵尺或電容傳感器），應(yīng)實(shí)時(shí)檢查反饋值是否與設(shè)定值一致。
偏差大、反復(fù)出現(xiàn)或難以收斂，可能存在誤差或控制問題。
誤差信號或報(bào)警信息
控制器軟件可能會(huì)彈出“超限”、“無法到位”、“失穩(wěn)”等信息，是系統(tǒng)異常的重要信號。
振蕩或不穩(wěn)定反饋波形
若反饋信號曲線出現(xiàn)不規(guī)則抖動(dòng)或震蕩，也說明運(yùn)動(dòng)過程中存在誤差或干擾。
二、從運(yùn)動(dòng)表現(xiàn)判斷
重復(fù)定位誤差明顯
多次讓位移臺返回同一目標(biāo)位置（如“往返5次”），若位置結(jié)果波動(dòng)大于設(shè)備規(guī)格，說明重復(fù)定位誤差偏大。
回程誤差較大
正反方向到達(dá)同一目標(biāo)點(diǎn)時(shí)，若位置反饋或?qū)嶋H測量值不同，可能存在回程間隙或驅(qū)動(dòng)失配。
響應(yīng)遲緩或延遲明顯
位移響應(yīng)慢、不跟手、滯后大，可能是電機(jī)負(fù)載變化、潤滑失效或控制參數(shù)設(shè)置不合理。
三、從外部測量判斷
用激光干涉儀、光學(xué)顯微鏡、AFM 或白光干涉儀測量
實(shí)測軌跡、位移量與設(shè)定值進(jìn)行對比，尤其適用于高精度需求下的誤差檢測。
位移不線性
理論上應(yīng)勻速運(yùn)動(dòng)的過程，若測量出明顯的加減速或平臺“跳動(dòng)”，提示執(zhí)行系統(tǒng)或編碼器存在問題。
目標(biāo)樣品未能對準(zhǔn)或誤差累積明顯
在顯微觀察下，樣品無法精準(zhǔn)對準(zhǔn)目標(biāo)區(qū)域、圖像漂移嚴(yán)重，通常也是位移臺定位不準(zhǔn)的表現(xiàn)。