納米位移臺通常具有兩種主要的定位模式：步進定位（Step positioning）和連續(xù)定位（Continuous positioning）。
步進定位模式：在步進定位模式下，納米位移臺以固定的步長移動。它通過控制執(zhí)行器（如壓電元件或電磁驅(qū)動）以離散的方式進行位置變化。這種模式下，納米位移臺移動到目標位置后會停止，并保持在該位置。步進定位模式適用于需要準確的位置控制、位置固定以及需要進行單點測量或操作的應(yīng)用。
連續(xù)定位模式：在連續(xù)定位模式下，納米位移臺可以以連續(xù)的方式進行位置調(diào)節(jié)。它可以實時地對執(zhí)行器施加控制信號，從而實現(xiàn)平滑和連續(xù)的位置變化。連續(xù)定位模式適用于需要連續(xù)掃描、運動軌跡跟蹤、表面映射等需要連續(xù)變化的應(yīng)用。
區(qū)別：
步進定位模式是離散的，而連續(xù)定位模式是連續(xù)的。在步進定位模式下，納米位移臺會在每個步進位置上停止，而在連續(xù)定位模式下，它可以平滑地移動到任意位置。
步進定位模式適用于需要固定位置和離散操作的應(yīng)用，而連續(xù)定位模式適用于需要連續(xù)運動、掃描或跟蹤的應(yīng)用。
步進定位模式下的定位精度通常較高，因為每個位置都可以被準確控制和固定。而連續(xù)定位模式下的定位精度可能受到運動平滑性和控制系統(tǒng)的響應(yīng)時間等因素的影響。
選擇步進定位模式還是連續(xù)定位模式取決于具體應(yīng)用的需求。某些應(yīng)用可能需要高精度的位置控制和固定，適合步進定位模式。而對于需要平滑連續(xù)運動或?qū)崟r反饋的應(yīng)用，則更適合選擇連續(xù)定位模式。
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